您好,欢迎您来到谷微半导体科技(江苏)有限公司!
608a4e128a074.png 24小时服务热线:0513-85708666   
二维码 |

GW-SAT旋转喷酸刻蚀机

产品中心 > 半导体湿法设备 > GW-SAT旋转喷酸刻蚀机

GW-SAT旋转喷酸刻蚀机

分享到:


GW-SAT旋转喷酸刻蚀机


GW-SAT旋转喷酸刻蚀机是需要酸和碱的加工应用的首选机台,可提供25或者50个晶圆配置,可安全、低成本的提供可重复均匀工艺结果,在市场上酸处理中产量最高的,可处理50-200毫米的晶圆。

GW-SAT旋转喷酸刻蚀机系统操作方便,一个简单的触摸屏控制,允许操作员快速培训和管理,大量的软件和硬件联锁,确保了操作员的安全。



 产品优势                                                                                                                                         应有领域

       1.健的喷雾处理提供精确、稳健的过程控制,以处理制造挑战                                          后蚀刻清洁 

       2.适应性化学是从浓缩填充容器中大量原料计量                                                                  扩散前清洁            

       3.灵活的高级软件和PC控制提供了适应广泛的流程的能力                                                   砷化镓                                           

       4.可重复自动处理控制所有过程参数提供可重复的结果                                                   金属蚀刻

       5. 低成本高吞吐量;低去离子水使用                                                                                  晶片回收蚀刻

       6. 化学物质通过过滤器从水箱中泵送到腔室中的分配歧管中,                                            氧化物蚀刻

           多喷嘴提供均匀的工艺和机械力,以优化工艺                                                                 UBM蚀刻

                                                                                                                                               薄膜蚀刻